在科技发展的浪潮中，杭州积海半导体有限公司于2025年2月12日宣布获得了一项重大技术专利——场效应晶体管及其制造方法，专利授权公告号为CN118983224B，申请日期为2024年10月。这一消息无疑为杭州市的半导㊣体行业注入了㊣新的活力。

　　成立于2019年的杭州积海半导体，地处美丽的西湖之畔，以计算机□□□、通信及其他电子设备制造为核心业务。注册资本高达㊣㊣8,700万元人民币，实缴资本也达到接近5亿，相信这背后的强大资金支持为其技术研究㊣提供了坚实基础。

　　根据天眼查的数据，杭州积海不仅在知㊣识产权方面稳扎稳打，目前拥㊣有高达101项专利和10条商标信息，还在招投标项目上参与478次，显示出其在行业竞争中的积极姿态和影响力。这一新专利的取得音响，意味着公司在半导体㊣技术领域又迈上了一个新台阶。

　　在全球半导体市场中，技术创新是企业立足之本。杭州积海的此次专利不仅是对自身研发能㊣力的认可，更是对国内半导体技术进步的重要贡献。在这个日新月异的科技时代，能够率先取得技术专利的企业常常意味着未来发展潜力的巨大爆发。杭州积海半导体的未来，值得我们拭目以待！返回搜狐，查看更多